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三星2nm工艺细节公布

能效提升8% 良品率不足60%
2025-11-19
來源:快科技

11月18日消息,據媒體報道,三星電子首次公布2nm工藝量產進展及技術指標:相較3nm制程,新工藝實現性能提升5%、能效優化8%、芯片面積縮減5%。

盡管提升幅度低于業界預測,但標志著GAA(全環繞柵極)晶體管架構在更先進節點的持續演進。

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據悉,三星首款采用2nm工藝的SoC為自研Exynos 2600,傳聞當前良品率介于50%-60%。該芯片的量產效能將直接驗證三星代工技術實力,尤其在高難度10nm以下制程中,良品率突破已成為爭奪客戶的核心競爭力。

目前,全球晶圓代工市場主要由臺積電占據,市場份額70.2%額穩居第一。雖然三星排在第二,但是市場占有率僅為7.3%,相差了接近十倍。

三星已經為晶圓代工業務設定新目標,希望通過提高2nm工藝的良品率以及與利潤豐厚的客戶建立長期業務關系,在兩年內實現盈利,并占據20%的市場份額。

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