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消息称三星电子4nm工艺HBM4内存逻辑裸片良率已超九成

2025-10-21
來源:IT之家

10 月 20 日消息,韓媒《朝鮮日報》當地時間今日表示,由三星電子晶圓代工部門為存儲器部門制造的 4nm 工藝 HBM4 內存邏輯裸片(注:Logic Die)良率已超過 90%。

三星電子在 HBM4 上采用了相對激進的工藝組合,即以 1cnm DRAM Die 搭配 4nm Logic Die,而臺積電目前的提供高性能 HBM Logic Die 方案則基于 5nm 制程節點。

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據稱這筆來自兄弟部門的訂單已占據三星晶圓代工 4nm 節點的約半數產能,而 4nm 的整體良率也突破了 80% 大關。

對于三星電子而言,在 HBM 內存對邏輯裸片工藝制程要求提升的背景下,存儲器部門 HBM 業務的市占恢復也意味著晶圓代工部門能拿到更大規模的內部訂單,有助于盈利狀況好轉。


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