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传三星将公布3nm工艺路线图 台积电你怕了吗?

2019-06-04
關(guān)鍵詞: 三星 台积电 半导体

  在半導(dǎo)體晶圓代工市場上,臺(tái)積電TSMC是全球一哥,一家就占據(jù)了全球50%以上的份額,而且率先量產(chǎn)7nm等先進(jìn)工藝,官方表示該工藝領(lǐng)先友商一年時(shí)間,明年就會(huì)量產(chǎn)5nm工藝。在臺(tái)積電之外,三星也在加大先進(jìn)工藝的追趕,目前的·線圖已經(jīng)到了3nm工藝節(jié)點(diǎn),下周三星就會(huì)宣布3nm以下的工藝·線圖,緊逼臺(tái)積電,而且會(huì)一步步挑戰(zhàn)摩爾定律極限。

  據(jù)悉三星將在5月14日舉行2019年度的SSF晶圓代工論壇會(huì)議,消息稱三星將在這次會(huì)議上公布3nm以下的工藝技術(shù),而三星在這個(gè)領(lǐng)域的進(jìn)展就影響δ來的半導(dǎo)體晶圓代工市場格局。

  目前在半導(dǎo)體晶圓代工市場上,臺(tái)積電TSMC一家就占據(jù)了全球50%以上的份額,而且率先量產(chǎn)7nm等先進(jìn)工藝,官方表示該工藝領(lǐng)先友商一年時(shí)間,明年就會(huì)量產(chǎn)5nm工藝。在臺(tái)積電之外,三星也在加大先進(jìn)工藝的追趕,目前的·線圖已經(jīng)到了3nm工藝節(jié)點(diǎn),下周三星就會(huì)宣布3nm以下的工藝·線圖,緊逼臺(tái)積電,而且會(huì)一步步挑戰(zhàn)摩爾定律極限。

  3nm之后呢?目前臺(tái)積電、三星甚至Intel都?有提及3nm之后的硅基半導(dǎo)體工藝·線圖,此前公認(rèn)3nm節(jié)點(diǎn)是摩爾定律最終失效的時(shí)刻,隨著晶體管的縮小會(huì)遇到物理上的極限考驗(yàn)。


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