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中国半导体设备产业正经历“四大挑战”

2017-07-17
關鍵詞: 半导体设备

  根據SEMI的調查,2017年全球半導體設備市場的規模為462.5億美元,如果中國大陸想在全世界占有30%的市場,相關的設備年投資金額,必須達到140億美元以上。

  但根據SEMI的調查,2016年中國半導體設備的總投資金額為64.6億美元,2017年估計為65.8億美元,但這個數字的背后,其實真正來自中國本土公司的投資金額分別為22億美元、47億美元,分別占中國境內半導體設備總投資金額的34.1%與71.4%。其余的投資金額,主要來自三星西安、海力士無錫與英特爾在大連晶圓廠的投資。

  這幾年,Semicon China之所以紅紅火火,主要的原因不是現在的市場,而是各界看好中國在未來的投資。根據SEMI的調查,中國本土半導體產業的設備投資,將在2018年~2020年間達到新的境界,預計的投資金額分別為108億美元、110億美元、172億美元。亦即,關鍵年度將在2018年,如果中國半導體設備的投資金額果真達到100億美元的門坎,那中國就不是「光說不練」的半導體新秀,而是將挑戰全球頂級商機的角逐者。

  其次,目前先進的半導體設備,依舊掌握在歐美日大廠手上,如果中國不能在上游設備上有所突破,或者將來受制于歐美先進國家以限制設備出口來箝制的話,中國半導體產業很可能只能在停滯在28nm以前的技術工藝。以1,500億美元打造一個老舊工藝為主的半導體產業,當然是一件不上算的投資,但就像華力微資深副總裁舒奇說的,中國是大國,半導體是國家戰略物資,中國難為也得全力以赴。

  中國半導體設備產業正經歷“四大挑戰”

  中國國內已經形成完備的半導體設備產業,在封測和 LED 設備領域,中國產替代化比例逐漸升高;但在技術要求苛刻的晶圓制造領域,目前還主要依賴進口設備。高端制造設備的乏力與中國高速增長的市場需求不相匹配,2015 年中國半導體設備市場需求約 49 億美元,占全球市場 14%,而 2015 年中國國內前十大半導體設備廠商的銷售額約為 38 億人民幣,占全球半導體設備市場份額不足 2%,基本處于可忽略的境地,國產半導體設備的尷尬處境急需轉變。中國半導體設備產業也正經歷著“四大挑戰”。

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  (Source:拓墣產業研究所整理,SEMI, 2016.9)

  中國半導體設備的關鍵零部件受制于人:以光刻機為例,光刻機中的核心鏡頭部件主要來源于日本的 NIKON、德國的 Zessi,現實情況,美日的盟國既可以購買高科技半導體產品,也可以購買高科技半導體設備及核心零部件。一直以來,美國等發達國家對中國高端技術的引進都保持封鎖態度,中國等非盟國團體雖然可以購買設備和技術,但最先進的技術設備都會被列入禁運名單,一般只會允許落后兩代左右的技術登陸,核心技術及關鍵零部件進口難度可想而知。

  短期內,核心零件技術突破并不實際,那么透過外交干涉來解決核心零件進口問題將成為關鍵,如何處理中美、中日等復雜的國際關系是擺在中國政府面前的一大挑戰。2016 年 9 月 3 日,十二屆全國人大常委會第二十二次會議審議批準了“中華人民共和國加入世界貿易組織關稅減讓表修正案”,審議指出,中國將逐步取消包括半導體及其生產設備、通訊等資訊技術產品的關稅,部分產品進口關稅計劃 3 至 5 年內降為零,中國此舉不僅表明了在支持 WTO 體制的一貫立場,也體現了中國政府直面挑戰的決心和大國魄力。

  巨頭壟斷,設備推廣面臨挑戰:相對于中國產光刻機的步履維艱,中國產氧化爐、刻蝕機與薄膜沉積設備已初現活力,中國產設備正逐漸打入中芯國際、華力微電子、三安光電、武漢新芯等中國一線廠商。七星電子的 12 英寸立式氧化爐,制程覆蓋 90~28nm,已通過生產線驗證并進入產業化階段,目前已銷售 10 臺(包括 2 臺中芯國際 B2 的 28nm 氧化爐);北方微電子在 LED 和 MEMS 領域刻蝕機市場,以及先進封測領域的 PVD 市場,國內占有率已超過 50%,領先海外競爭對手;中微半導體的電介質刻蝕設備、TSV 刻蝕設備也已走出國門。然而整體來看,全球半導體設備由寡頭壟斷已久的局面仍未改變,在中國政策與資金等多方面資源的強力支持下,中國產半導體設備將繼續挑戰提升在中國及國際市場的滲透率。

  出貨量少,產線機臺驗證低效:一臺設備從研發到樣機進廠驗證,出廠前需要經過大量芯片的制程實驗,機臺在這個過程中多次重復并不斷改型優化,最后在測算平均無故障時間達標后方能定型。如此高昂的制程試驗線費用,設備企業在沒有出貨量的保障下是負擔不起的。為此,中國對下游制造企業進行更多補貼,由制造企業的產線來幫助設備企業進行機臺試驗,這就意味著當制造企業滿負荷運轉的情況下,還需要另外抽出人員、精力來進行機臺試驗,而這些對于制造廠的產能是沒有貢獻的,制造企業的積極性未能調動起來,導致產線機臺驗證效率較低。

  廠商技術分散,未形成集聚效應:例如在薄膜沉積設備方面,中國有北方微電子、七星華創、中微半導體、拓荊、理想、中科院沈陽科學儀器研制中心等企業和研究所進行相關技術開發,表面上看,各企業多點開花,實際情況則面臨技術分散,大家都只顧做自己的,技術彼此屏蔽,最終有可能變成惡性競爭態勢。中國半導體設備產業的發展需要各設備企業互相合作,形成合力,這一點可以多向制造、封測產業學習,兼并重組是形成規模效應的重要方式。目前,中國半導體設備行業已有購并重組相關動作,預計后期的步伐會逐漸加快。

 


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