工業(yè)自動化最新文章 分析师：英特尔最少落后台积电5年，可能永远追不上了 9月28日下午消息，据中国台湾地区媒体报道，罗森布拉特（Rosenblatt Securities）证券公司的分析师Mosesmann在8月底的一份报告中表示，处理器大厂英特尔（Intel）在半导体制程上的瓶颈不只是10纳米节点的延期，而且需要许多时间来解决这个问题，因为这将造成英特尔制程劣势持续5年、6年、甚至7年时间。 發(fā)表于：2018/11/1 三星台积电工艺之争，被打败的是英特尔？ 有一段流传度非常广的话，相信大家都见过。王老吉和加多宝的战争，失败的是和其正；可口可乐和百事可乐的战争，失败的是非常可乐；今天，三星和台积电的工艺之争，失败的会是英特尔？ 發(fā)表于：2018/11/1 三星台积电制程工艺已领先Intel？真相并非如此！ 以前一扯到CPU关于新制程进程方面的东西，一些大佬就要开始提摩尔定律，作为Intel创始人之一戈登·摩尔提出的这项理论，Intel无疑是目前最为坚定的捍卫者之一，不过随着现目前台积电和三星方面在工艺节点方面的全面超越已经开始量产10nm和即将试产的7nm工艺，在进度方面那可是比Intel方面快多了，很多朋友到现在也没有想清楚具体原因，今儿个小狮子就来跟大家聊这个话题。 發(fā)表于：2018/11/1 纳米制程进度如何？英特尔/三星/台积电/中芯国际都做了哪些努力 芯师爷说：纳米制程是半导体制造领域的核心技术，最近英特尔扩建10nm工厂，三星14亿买10台光刻机，开动7nm工厂，其6nm也正在计划中，今年初，台积电5nm已经动土，大陆半导体制造和先进地区还存在一定差距，在大基金和地方政府的支持下，中芯国际等半导体制造企业一直在努力突破。 發(fā)表于：2018/11/1 英特尔不仅10nm延期，EUV光刻工艺也要落后三星、台积电两年 随着Globalfoundries公司无限期退出7nm及以下工艺研发，全球有能力研发先进工艺的只剩下英特尔、台积电及三星，其中英特尔公司是过去几十年中半导体工艺最强大的公司，但是现在他们的10nm工艺都延期到明年底，台积电、三星的7nm已经或者即将量产。 發(fā)表于：2018/11/1 台积电将带来5nm的工艺，英特尔尴尬 新一代的iPhoneXS和iPhoneXR搭载的是A12芯片，是7nm的制程，而近期发布的华为mate20和荣耀Magic2搭载的是麒麟980芯片，同样都是采用台积电的7nm工艺制程。据台积电官方公告看，有关极紫外光刻(EUV)技术两项重大突破，7nm EUV工艺流片成功；另外，将在明年4月份进行5nm工艺试产。 發(fā)表于：2018/11/1 详解7nm工艺，三星，台积电，英特尔，格罗方德真不容易 晶圆代工巨头企业三星、台积电和GF（格芯），在半导体工艺的发展上越来越迅猛，10nm制程才刚刚应用一年半，7nm制程便已经好似近在眼前。 發(fā)表于：2018/11/1 Intel10nm工艺只是延期两年？或其永远追不上台积电、三星、AMD等对手 如果按照之前的Tick-Tock战略进行，英特尔应该在2015年底就量产10nm工艺了，只不过这些都是奢望了，从14nm节点英特尔就开始遭遇工艺难产问题，10nm工艺一再延期，现在的官方说法是明年底开始量产，不过真正大规模量产桌面及服务器处理器要到2020年了。10nm工艺的延期给英特尔制造了很多麻烦，成为被市场看衰的关键。 發(fā)表于：2018/11/1 台积电已到7nm层级，英特尔还在10nm徘徊不前 据中国台湾地区媒体报道，罗森布拉特（Rosenblatt Securities）证券公司的分析师Mosesmann在8月底的一份报告中表示，处理器大厂英特尔（Intel）在半导体制程上的瓶颈不只是10纳米节点的延期，而且需要许多时间来解决这个问题，因为这将造成英特尔制程劣势持续5年、6年、甚至7年时间。 發(fā)表于：2018/11/1 三星力不从心，Intel落后5年！台积电明年4月试产5nm EUV制程工艺 台积电方面日前表示7nm制程的芯片已开始量产，同时5nm制程将会在2019年年底或2020年年初投入量产。显然这对于三星来说不是个好消息，众所周知台积电在7nm制程工艺节点上非常成功，不仅与众多厂商有合作目前还独家为苹果供应A系列芯片。 發(fā)表于：2018/11/1 半导体工艺制程，英特尔野心太大，反而因此落后台积电! 英特尔一开始野心太大，希望满足最严苛的摩尔定律，大幅缩小晶体管体积的同时，还在制程导入全新材料，希望一步到位，让产品性能大幅超前对手，一举甩开台积电。 發(fā)表于：2018/11/1 三大半导体代工厂PK，三星、英特尔、台积电的晶体管之争谁胜出？ 由于晶体管制造的复杂性，每代晶体管制程针对不同用途的制造技术版本，不同厂商的代次间统计算法也完全不同，单纯用代次来比较并不准确。根据目前业界常用晶体管密度来衡量制程水平，英特尔最新10nm制程的晶体管密度堪比三星 EUV版本7nm制程。 發(fā)表于：2018/11/1 ASML、IMEC联合研发第二代EUV光刻机 3nm工艺的救星？ 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。 發(fā)表于：2018/10/31 长电科技前三季净利润同比暴跌89.42% 昨晚，国内封装龙头长电科技发布了新一季的财报。财报显示，2018年三季报显示，长电科技今年前三季度营业收入181亿元，同比增长7.27%；但归属于上市公司股东的净利润1747万元，同比下降89.42%。基本每股收益0.011元。 發(fā)表于：2018/10/31 EUV光刻机对半导体制程的重要性 集成电路在制作过程中需要经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。而光刻工序用到的设备——光刻机则是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。 發(fā)表于：2018/10/31 <…635636637638639640641642643644…>
