7 月 15 日消息，ASML 阿斯麥今日宣布，英特爾代工已在 Intel 18A 工藝節點上，利用阿斯麥高數值孔徑極紫外（High NA EUV）光刻技術量產部分 Intel Core Ultra Series 3（代號 Panther Lake）處理器，成為全球首家實現 High NA EUV 邏輯芯片高產量出貨的企業。
雙方表示，Intel 18A 部分工藝層已完成 High NA EUV 雙重認證，產品良率已達到現有 NXE EUV 平臺水平，并將繼續推進該技術在未來制程節點的應用。
2024 年，英特爾和 ASML 在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的研發基地成功完成了業界首臺商用 High NA EUV 光刻系統的集成工作。英特爾也是第一家安裝并通過驗收測試的第二代 TWINSCAN EXE:5200B 系統的公司。該系統是在 TWINSCAN EXE:5000 的基礎上進行改進，不僅提升了產量和覆蓋精度，還優化了光源性能。
據IT之家今年 6 月報道，針對外界傳言臺積電現階段不投入高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）設備，臺積電董事長魏哲家在股東會上親自出面辟謠，強調公司不僅沒有不投資，且早已購入相關設備，只是暫時不投入量產。由于成本高，目前生產中不需要 High-NA EUV。臺積電正在努力降低成本，并在投入生產前最大化高數值孔徑 EUV 的效益。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。