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涉及台积电2nm窃密案 传TEL社长将于9月拜会台积电高层

2025-08-20
來源:芯智讯
關鍵詞: TEL 2nm 台积电

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8月19日消息,據臺媒報道,針對臺積電近期爆發的2nm制程泄密案,涉案的日本半導體設備大廠Tokyo Electron(TEL)社長河合利樹很可能將會在今年9月訪臺,并于SEMICON Taiwan 期間專程拜會臺積電高層。

根據此前的報道,臺積電2nm制程泄密案涉案的2名臺積電員工已經被開除,涉及其中的一名TEL員工也已經被開除。這三人由于涉嫌違反中國臺灣地區的《安全法》遭羈押禁見,全案已進入司法調查。因此,臺積電和TEL都無法對此進行回應。

不過市場消息指出,臺積電可能在取得檢方相關搜證證據后,會向TEL要求賠償。

中國臺灣地區最高檢察署檢察總長邢泰釗表示,針對廠商提告違反營業秘密案,從提出到定案通常得費時長達半年,因為檢察機關對國安事件的偵查沒有系統性訓練,但兩者之間卻是息息相關。然而,營業秘密與地區安全息息相關,從2022年至2025年6月,中國臺灣涉及營業秘密法不起訴處分的比例高達70%,關鍵在于廠商搜證數據不齊全,不過在那剩余30%的起訴案中,高達68.7%是判決有罪的,代表100件中,約有2成會被定罪。

邢泰釗還表示,相關廠商、司法機關、檢察機關對辦理營業秘密案件的專業必須加強,才能守護國家重要技術及安全。國科會將14nm以下制程的IC 制造技術納入地區核心關鍵技術清單,因此該機構表示,若竊取核心關鍵技術營業秘密,依法將由檢調偵辦,并加重刑責最高達12年有期徒刑、新臺幣1億元罰金。


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