關鍵詞：
台积电
在六月初，臺積電舉辦了 2021 年技術研討會，涵蓋了其在工藝節點技術方面的最新發展，旨在為客戶提高性能和能力并降低成本。在這次活動中，臺積電討論了其在制造中越來越多地使用極紫外 （EUV） 光刻技術，使其能夠縮小到其 3nm 工藝節點，遠遠超過其競爭對手。臺積電還解決了當前圍繞半導體需求的問題，并宣布正在建設用于先進封裝生產的新工廠。
下面，我們把他們演講的Slide分享如下，讓大家知道這家晶圓代工巨頭的發展方向。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。