12月17日，江蘇南大光電材料股份有限公司（以下簡稱“南大光電”）發布公告稱，公司控股子公司寧波南大光電材料有限公司（以下簡稱“寧波南大光電”）自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。

　　認證評估報告顯示，“本次認證選擇客戶50nm閃存產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。”

　　公告指出，“ArF光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家“02專項”的一個重點攻關項目。本次產品的認證通過，標志著“ArF光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠。

　　根據此前的計劃，該項目達產后將達到年產25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產品的生產規模，以滿足集成電路行業的需求。

　　ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝。廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存儲器和云計算芯片等）。

　　隨著國內IC行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。

　　南大光電表示，本次驗證使用的50nm閃存技術平臺，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業界有代表性。

　　南大光電還提示，ArF光刻膠產品通過客戶的認證，與客戶的產品銷售與服務協議尚在協商之中。尤其是ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善，這些都會決定ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。