光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備，光刻機(jī)所使用的光源波長直接決定著芯片的工藝級別。例如，目前最先進(jìn)的芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機(jī)，而這種光刻機(jī)的全球唯一供應(yīng)商就是荷蘭阿斯麥ASML。

最近，據(jù)同花順財經(jīng)消息， 荷蘭阿斯麥 ASML 首席財務(wù)官 Roger Dassen 在財報會議的視頻采訪中談及了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)情況。

Roger Dassen 表示，如果廣泛地來理解美國規(guī)章制度對 ASML 的總體含義(對于特定的中國客戶)，則意味著 ASML 將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供 DUV 光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運(yùn)往此類客戶的零件或系統(tǒng)，ASML 則需要為此申請出口許可證。

21ic家注意到，最近，ASML公布了其第三季度財報，在該季度ASML一共交付了10臺EUV系統(tǒng)，并實(shí)現(xiàn)了14臺系統(tǒng)的銷售收入，總銷售額達(dá)到40億歐元。同時，第三季度的新增訂單達(dá)到29億歐元，其中5.95億歐元來自4臺EUV設(shè)備。

財報中還公布了其兩大系列光刻機(jī)產(chǎn)品的最新進(jìn)展。

其中，在EUV光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B系統(tǒng)在客戶處同時進(jìn)行了生產(chǎn)率模組的升級。同時，ASML還公布了其EUV路線圖上的最新機(jī)型：TWINSCAN NXE：3600D，該EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了30mJ/cm2的曝光能量達(dá)到每小時160片晶圓，生產(chǎn)率提高了18%，并改進(jìn)了機(jī)器匹配套刻精度至1.1納米。該新型EUV光刻機(jī)預(yù)計2021年中期開始發(fā)貨。

在DUV光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，ASML在本季度對第一臺TWINSCAN NXT：2050i進(jìn)行了質(zhì)量認(rèn)證，并于第四季度初發(fā)貨。NXT：2050i是基于NXT平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進(jìn)。由于采用了這些創(chuàng)新，該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產(chǎn)率。NXT：2050i已進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。