根據 《路透社》 的報導，日本光學大廠尼康 （Nikon）于24日表示，已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 （ASML Holding NV） 和合作伙伴卡爾蔡司 （Carl Zeiss AG） 提起法律訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影 （lithography） 技術專利用于光刻機上，并運用在半導體制造業中。

報導進一步表示，世界第 8 大芯片設備制造商 Nikon 在 24 日指出，已經在荷蘭、德國和日本針對生產半導體光刻機的荷蘭廠商 ASML 和旗下光電供應商 Carl Zeiss 提起了專利侵權案件。Nikon 在一份聲明中指出，ASML 和 Carl Zeiss 在沒有得到許可的情況之下，采用了 Nikon 的專利技術，運用在 ASML 的光刻機中。而光刻機是用在全球的半導體制造業中先進制程不可缺少的設備，如此以進一步侵犯了 Nikon 的專利。Nikon 表示，正在尋求損害賠償，并防止 ASML 和 Carl Zeiss 出售該技術。

目前在全球的半導體設備市場中，ASML 主導半導體光刻機的產品。根據惠譽評級 （Fitch Ratings） 在 2017 年 1 月份的一份研究報告中指出，這家荷蘭公司在這樣的高端的半導體設備中，占有 90% 的市場占有率。而根據 ASML 在 19 日所公布的 2017 年第 1 季財報顯示，第 1 季營收凈利達 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，EUV 極紫外光微影系統的未出貨訂單則累積到 21 臺，價值高達 23 億歐元。而且預估 ASML 在 2017 第 2 季營收凈利將落在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

ASML 的總裁兼CEO Peter Wennink 對于 Nikon 所發起的訴訟表示，Nikon 所提起的訴訟不但不必要，還毫無根據。而且，這還將對于全球半導體產業造成不確定性。他進一步指出表示，ASML 已多次嘗試與 Nikon 協商延長交叉許可協議。

Nikon 則表示，法律訴訟是在由美國退休法官于 2016 年底進行的調解未成之后所決定發起的。而根據 Nikon 的說法，提起訴訟的 3 項微影技術專利，ASML 和 Carl Zeiss 兩家公司分別在 2004 年支付 Nikon 8,700萬 美元和 5,800 萬美元的授權金。授權期限在 2009 年到期，而 2014 年底其專利權的過渡期也到期之后，雙方在 2016 年底經過調解協商延長交叉許可協議未成。