中文引用格式： 金焱驊，紀(jì)寶林，吳玉罡. 集成化掩模版圖紙分析軟件開發(fā)與性能優(yōu)化研究[J]. 電子技術(shù)應(yīng)用，2026，52(7)：91-96.
英文引用格式： Jin Yanhua，Ji Baolin，Wu Yugang. Reasearch on development and performance optimization of integrated mask layout analysis software[J]. Application of Electronic Technique，2026，52(7)：91-96.
引言
掩模版作為光刻工藝的轉(zhuǎn)移介質(zhì)、芯片設(shè)計與微納加工之間的銜接媒介，可以將芯片設(shè)計版圖數(shù)據(jù)通過制版工藝轉(zhuǎn)化為光刻掩模版上的具體圖案，形成用于光刻機曝光的光學(xué)模具，在半導(dǎo)體設(shè)計與制造產(chǎn)業(yè)中有著十分重要的作用[1-2]。通常，設(shè)計公司版圖設(shè)計師在完成芯片圖紙初步設(shè)計后，會將原始圖紙與設(shè)計需求發(fā)送給掩模版數(shù)據(jù)處理設(shè)計師進行版圖處理，由掩模版數(shù)據(jù)處理設(shè)計師對版圖進行圖形排布、OPC（光學(xué)鄰近效應(yīng)修正）、DRC/MRC（設(shè)計規(guī)則檢查/制造規(guī)則檢查）、輔助圖形設(shè)計、參數(shù)計算等操作，使版圖圖紙滿足芯片設(shè)計、流片工藝以及掩模版加工三方的需求[3]。
在生產(chǎn)加工過程中，為保障設(shè)計內(nèi)容的正確性，掩模版數(shù)據(jù)處理設(shè)計師需要將處理完成的圖紙與芯片設(shè)計人員、流片廠等多方進行校對，主要校對內(nèi)容包含：設(shè)計方案、版圖加工效果、版圖透光率參數(shù)、關(guān)鍵尺寸等。目前市面上的集成電路EDA軟件主要是針對芯片設(shè)計進行開發(fā)，少有針對掩模版圖紙分析進行開發(fā)的專用工具與軟件來滿足不同類型圖紙分析的需求，掩模版數(shù)據(jù)處理設(shè)計師通常使用集成電路EDA軟件中的一些功能間接完成分析[4]。因此，本文通過Python編程語言，針對常見的版圖類型，開發(fā)了一款可對不同格式掩模版圖紙進行透光率計算、加工效果圖預(yù)覽及保存以及尺寸測量的專用分析軟件。
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作者信息：
金焱驊，紀(jì)寶林，吳玉罡
（中國電子科技集團公司第五十五研究所，江蘇 南京 211111）
