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FSI单晶圆清洗技术被重要全球性半导体制造商用于32nm后段清洗工艺开发

新的单晶圆湿法清洗技术可满足32nm器件制造的低介电材料和金属薄膜层叠等要求
2008-05-19
作者:FSI国际有限公司

??? 全球領先的集成電路生產晶圓" title="晶圓">晶圓清洗系統(tǒng)制造商FSI國際有限公司(納斯達克:FSII),今日宣布一家重要的半導體制造商在32 nm 集成電路制造" title="集成電路制造">集成電路制造的后段(BEOL)清洗能力開發(fā)中選用了FSI單晶圓清洗技術。這家客戶經過一系列優(yōu)中選優(yōu)的過程,最終認定FSI的技術最符合32nm" title="32nm">32nm器件制造所預期各項新要求。FSI已經針對這一開發(fā)項目發(fā)運評估性ORION?單晶圓清洗集群。?

IC制造商正在尋求的用于32nm器件的低介電系數(low-k)材料和金屬薄膜疊層,對于濕法清洗比前幾代BEOL工藝敏感得多。FSI與眾不同的單晶圓技術展示了高效去除刻蝕和灰化副產品的能力,同時不改變電介質、不改變刻蝕金屬膜厚度以及避免電偶腐蝕。?

????“能被這樣一家重要客戶選中,實在是令人欣慰和倍受肯定的,”FSI董事長兼首席執(zhí)行官Don Mitchell這樣說道。“我們在單晶圓清洗技術的開發(fā)上是經過深思熟慮的,即專注于將我們極為豐富的經驗和專長轉變?yōu)闈M足行業(yè)進步需求的機臺設備。我們擁有在浸泡式、噴霧式和汽霧表面處理的批量和單晶圓平臺方面數十年獨到的經驗和歷史,這讓我們對清洗需求范圍有了更深入的理解。在很大程度上憑借這一無價的寶貴資源,我們源自那些業(yè)已成功產品的單晶圓清洗技術實現" title="技術實現">技術實現了諸多核心技術,同時選擇性創(chuàng)新還可應對來自32nm工藝的各項挑戰(zhàn)。?

關于FSI:?

??? FSI國際有限公司是一家為微電子制造提供表面處理設備技術及支持服務的全球性的供應商。通過使用公司產品組合中的多" title="的多">的多晶圓批量和單晶圓的浸泡式、旋轉噴霧式、汽相和超凝態(tài)過冷動力學等一整套清洗技術產品,客戶能夠實現他們的工藝性能、靈活性和生產能力目標。公司推出的支持服務項目包括了產品及工藝的提升,從而延長已安裝的FSI設備的使用壽命,使世界范圍內的客戶的資本投資獲得更高的回報。?

??? FSI國際有限公司全球網站:http://www.fsi-intl.com.?

??? FSI國際有限公司中文網站:http://china.fsi-intl.com
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