3 月 12 日消息，英特爾高級副總裁安妮?凱萊赫（Anne Kelleher）近日出席 SPIE 2024 會議，透露 Intel 14A 工藝節點的性能功耗比（Performance per watt），會比 Intel 18A 提高 15%，而后續增強的 14A-E 工藝在普通 14A 節點的基礎上再增加 5%。
凱萊赫表示 Intel 14A 工藝率先使用 High-NA EUV 光刻技術，因此晶體管邏輯密度比 Intel 18A 提高了 20%。
英特爾公司正在積極推進 IDM 2.0 戰略，希望在 2030 年之前超越三星，重新奪回代工行業的領先地位，目前總訂單規模超過 150 億美元（當前約 1077 億元人民幣）。英特爾公司此前發布公告，已經和微軟公司達成合作，采用 Intel 18A 工藝為其生產芯片。
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