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台积电最新制程工艺路线图:预计明年下半年3纳米芯片投产

2021-04-28
來源:与非网

  與非網4月28日訊,據悉,全球最大芯片代工廠商臺積電更新了其最新的制程工藝路線圖,4納米工藝芯片將會在2021年底進入“風險生產”階段,并于2022年實現量產;3納米芯片預計在2022年下半年投產,而2納米工藝正在開發當中。

  2納米工藝方面,臺積電表示由于物理限制將無法使用原有的全柵場效應晶體管(GAAFET)。研發團隊目前正全力尋找下一代新材料,新的晶體管技術將在未來許多年里被廣泛使用。

  臺積電總裁魏哲家表示:目前市場上先進制程的產品需求旺盛,臺積電生產的5納米芯片擁有優異的表現,如今要求與臺積電合作5納米、3納米產品的客戶越來越多。

  預估在產能方面,臺積電仍然是一枝獨秀,沒有任何競爭對手威脅臺積電的主導地位。臺積電重申,它們有信心會令2nm(N2)、3nm(N3)和4nm(N4)工藝按時間推出,并且保持比競爭對手更先進的節點工藝優勢。

  今年年初,臺積電把2021年的資本支出預算大幅提高到250億到280億美元,而最近更是追加到300億美元。未來三年臺積電計劃總共投入1000億美元實現產能增加和研發投入。

  在臺積電今年300億美元的資本預算中,約80%將用于擴大先進技術的產能,如3納米、4納米、5納米、6納米以及7納米芯片。今年年底,先進節點上的大部分資金將用于將臺積電的5納米產能擴大到每月11萬至12萬片晶圓。

  魏哲家在最近與分析師和投資者的電話會議上表示:“作為一家領先的晶圓代工企業,臺積電在成立30多年的歷史中從未缺乏競爭,但我們知道如何競爭。我們將繼續專注于提供領先的技術、卓越的制造服務,并贏得客戶的信任。其中,贏得客戶信任是相當重要的,因為我們沒有與客戶競爭的內部產品。”


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