近日，蘇州晶瑞化學(xué)股份有限公司（以下簡稱“晶瑞股份”）發(fā)布公告稱，經(jīng)多方協(xié)商、積極運(yùn)作，公司已順利購得ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)一臺，并于2021年1月19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。

據(jù)悉，晶瑞化學(xué)此次采購的光刻機(jī)設(shè)備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機(jī)，可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠。該設(shè)備于2020年11月19日從原廠斷電停機(jī)，于2021年1月19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。

公告顯示，本次購買的ASML光刻機(jī)設(shè)備系晶瑞股份集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目的必要實驗設(shè)備，旨在研發(fā)出更高端的ArF光刻膠，若研發(fā)工作進(jìn)展順利，將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越，并最終實現(xiàn)應(yīng)用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。

晶瑞股份表示，目前公司完成中試的KrF光刻膠已進(jìn)入客戶測試階段，達(dá)到0.15μm的分辨率。本次光刻機(jī)的順利入駐可以保障公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)先進(jìn)性，對加快產(chǎn)品研發(fā)項目進(jìn)度有積極影響。

晶瑞股份在接受經(jīng)濟(jì)觀察網(wǎng)咨詢有關(guān)光刻膠的生產(chǎn)研發(fā)狀況時表示，“公司目前正在生產(chǎn)和銷售的半導(dǎo)體光刻膠主要包括I線和G線光刻膠，此外還有印制電路板（PCB）和液晶顯示器（LCD）光刻膠等；購買的光刻機(jī)主要用于未來高端半導(dǎo)體光刻機(jī)的研發(fā)。”

公告顯示，下一步，晶瑞股份將積極組織相關(guān)資源，盡快完成設(shè)備的安裝調(diào)試工作。