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年增近三成,台积电资本支出又创新高

2021-01-06
來源:联合新闻网

龐大資本支出是半導體制造業維持競爭優勢的必要投資,晶圓代工龍頭臺積電持續擴展版圖、沖刺先進制程,業界傳出,臺積電今年資本支出規模將達220億美元,超乎預期,創歷史新高,年增幅度近三成。

在全球晶圓代工先進制程之爭上,緊跟在臺積電之后的三星電子,2020年資本支出約達3572萬億韓元,其中半導體業務占二十八點九兆韓元。根據外電報導,三星2021年的半導體資本支出將不低于2020年。處理器巨人英特爾2020年的資本支出金額,則在142至145億美元之間。

與上述兩家業界大廠相比,臺積電的資本支出雖然低于三星,但是高出英特爾不少。三星在晶圓代工部分積極投資以追趕臺積電的心思眾人皆知;英特爾先進制程訂單是否會于近期決定釋出代工訂單給臺積電,受到外界矚目。

對于今年的資本支出金額,臺積電表示,該公司2021年資本支出將于一月十四日的法說會上公布。

臺積電因應先進制程投資龐大,近年資本支出維持高檔,2016年首度沖破100億美元、達102億美元。去年初宣布2020年資本支出為150億至160億美元,即便新冠肺炎疫情肆虐,臺積電去年7月還上修年度資本支出到160億至170億美元,并于去年10月的法說會中,定調全年資本支出為170億美元。

臺積電持續發展3納米及以下先進制程,相關制程仰賴要價不斐的極紫外光(EUV)機臺支援。由于一臺EUV機臺售價逾1億歐元,市場先前盛傳,臺積電今年資本支出將首度站上200億美元大關,等于六年內從100億美元翻倍,巨額投資顯示臺積電維持技術領先的企圖心。

業界人士估計,臺積電今年資本設備的投資重點,應是5納米、3納米制程相關廠務與設備投資,還有一部分投入先進封裝及2納米制程研發。

半導體供應鏈業者表示,臺積電5納米制程已量產,目前月產能約六萬片,正持續擴充,預計到今年下半年時,可達到約每月十萬片規模。業者透露,臺積電對3納米制程布局相當積極,初期月產能約一萬到三萬片,后續規劃的總產能規模將比5納米制程還要多。


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