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韩国EUV光刻技术获重大突破

2020-11-19
來源:OFweek电子工程网
關鍵詞: 韩国 EUV 三星 5nm工艺

    11月17日消息,韓國知識產權局(KIPO)公布的統計數據顯示,2011-2020年,韓國EUV光刻專利2014年有88項,2018年有55項,2019年則為50項。

    據報道,以三星為代表的韓國企業通過不斷的在研究開發方面投入,在EUV光刻技術上不斷縮小與行業領先企業之間的差距。近期,三星正式推出的Exynos1080芯片,背后就有對EUV光刻機技術突破的因素。

    Exynos1080芯片是三星首款基于5nm工藝制造的手機SoC芯片。

    

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