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中国台湾:台积电2nm制程获重大突破

2020-09-21
來源:半导体行业观察
關鍵詞: 台积电 2纳米 三星

  據臺媒經濟日報透露,臺積電2納米制程研發獲重大突破。供應鏈透露,有別于3納米與5納米采用鰭式場效電晶體(FinFET)架構,臺積電2納米改采全新的多橋通道場效電晶體(MBCFET)架構,研發進度超前,業界看好2023年下半年風險性試產良率即可達九成,助攻未來持續拿下蘋果、英偉達等大廠先進制程大單,狠甩三星

  半導體制程一路微縮,面臨物理極限,業界原憂心不利摩爾定律延續,也就是過往每18個月推進一個制程時代的腳步受阻,使得臺積電等半導體大廠先進制程發展受影響。

  三星預計年底才投入5納米制程,落后臺積。隨著臺積電在2納米新制程節點有重大突破,宣示臺積電將可延續摩爾定律發展,更確定未來朝1納米推進可能性大增,進一步擴大與三星的差距。臺積電向來不對訂單等動態置評,且迄今仍低調未對外透露2納米制程細節,僅表示2納米將是全新架構。

  業界人士指出,2020年臺灣國際半導體展(SEMICON TAIWAN)將在本周三(23日)登場,臺積電董事長劉德音受邀進行主題演講,市場聚焦臺積電先進制程研發對人工智慧(AI)、第五代行動通訊(5G)推動影響,并關注劉德音釋出的臺積電先進制程研發近況。

  據悉,臺積電去年成立2納米專案研發團隊,尋找可行路徑進行開發,考量成本、設備相容、技術成熟及效能表現等多項條件,2納米采以環繞閘極(GAA)制程為基礎的MBCFET架構,解決FinFET因制程微縮產生電流控制漏電的物理極限問題,在極紫外光(EUV)微顯影技術提升,使臺積電研發多年的納米片(Nano Sheet)堆疊關鍵技術更為成熟,良率提升進度較預期順利。

  臺積電總裁魏哲家日前于玉山科技協會晚宴專講時透露,臺積電制程每前進一個世代,客戶產品速度效能增加30%至40%,功耗可以降低20%至30%。

  供應鏈認為,以臺積電2納米目前研發進度研判,2023年下半年可望進入風險性試產,2024年正式量產。臺積電先前揭示2納米研發生產將落腳新竹寶山,規劃P1到P4四個超大型晶圓廠,占地90多公頃。

  業界認為,臺積電2納米良率及效能值得期待,推出即可望獲蘋果、英偉達、高通、超微等大客戶采用,陸續轉到2納米投片。尤其英偉達收購安謀(ARM)后,朝超級電腦、超大規模資料中心等高速運算前進,未來將更仰賴與臺積電合作。

  

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