數(shù)多晶圓代工廠中，坐落于臺積電憑借一己之力拿下全球60%的晶圓產(chǎn)量，坐穩(wěn)晶圓代工廠的頭一把交椅。除了臺積電，來自大陸第一的芯片巨頭，中芯國際這顆新星也在冉冉升起。

8月27日，中芯國際發(fā)布2020年上半年財報，公司營收創(chuàng)下歷史新高，達到131.61億，同比增長29.4%，其中歸屬上市公司股東的凈利潤為13.86億元，相較于2019年同期暴增329.8%。

短短半年凈賺近14億元，中芯國際的吸金能力雖不及臺積電，但也是業(yè)內(nèi)的佼佼者。至于芯國際上半年營收增長的主要原因，則是晶圓出貨數(shù)量增加所導(dǎo)致，據(jù)悉，中芯國際上半年銷售晶圓的數(shù)量達280萬片，同比增長19.7%。

在成熟應(yīng)用平臺的需求，一如既往強勁的同時，中芯國際還在持續(xù)推進研發(fā)進度，其中最值得一提的當(dāng)屬7nm工藝節(jié)點。因為種種原因，中芯國際目前仍停留在14nm工藝節(jié)點，對比已經(jīng)量產(chǎn)5nm工藝的臺積電，差距不是一星半點。

雖然中芯國際在7nm工藝的量產(chǎn)上遲遲未取得突破，但對于中芯國際來說7nm芯片技術(shù)其實并不遙遠(yuǎn)。不過，7nm工藝在中國芯片被稱為N+1，相較于14nm工藝芯片，功耗降低57%，邏輯編輯縮小63%，SOC面積減少55%。

7nm工藝相比14nm工藝更先進，性能功耗有更好的表現(xiàn)，這是眾所周知的事情，但需要注意的是，無論臺積電還是三星的7nm工藝芯片，都需要EUV光刻機，而中芯國際的N+1技術(shù)，卻并不需要EUV光刻機。

中芯國際可利用193nm波長的光刻機，輔以浸潤式技術(shù)，等效于134nm的波長，最終實現(xiàn)7nm的精度。EUV光刻機目前只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn)，不僅價格昂貴還產(chǎn)量有限，受美方制裁影響，中芯國際2018年購買的光刻機至今仍未到貨。

倘若中芯國際的7nm工藝，不需要ASML得EUV光刻機即可實現(xiàn)量產(chǎn)，這無疑讓國產(chǎn)芯片看到曙光。

值得注意的是，在8月有消息人士稱，中芯國際將在2021年開始為低功率器件生產(chǎn)7nm芯片。

除了N+1技術(shù)外，中芯國際還有N+2技術(shù)。雖然N+2技術(shù)具體的性能參數(shù)還未曝光，但業(yè)內(nèi)人士頻頻猜測，N+2技術(shù)正是5nm工藝技術(shù)，預(yù)計在2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。