聯(lián)發(fā)科傳出下修明年度在臺(tái)積電的10nm投片量，為先進(jìn)制程前景打上問(wèn)號(hào)。對(duì)芯片廠來(lái)說(shuō)，28nm目前仍是性?xún)r(jià)比最好的制程。

雖然三星、臺(tái)積電等半導(dǎo)體制造廠還在力拚先進(jìn)制程，臺(tái)積電更已開(kāi)出各階段先進(jìn)制程的量產(chǎn)目標(biāo)，一路往10nm、7nm、5nm甚至3nm前進(jìn)。

不過(guò)，單是一顆10nm晶片的投片成本就要1，200萬(wàn)美元，在不確定晶片能否大賣(mài)的前提下，就要先投下鉅資，用得起的客戶(hù)愈來(lái)愈少卻也是不爭(zhēng)的事實(shí)。

全球網(wǎng)通晶片龍頭博通前任執(zhí)行長(zhǎng)Scott McGregor曾表示，依摩爾定律，半導(dǎo)體每一、兩年都會(huì)有技術(shù)發(fā)展與創(chuàng)新，成本下降、性能變好，但雖總成本降低，每單位成本卻上升，這是有史以來(lái)，第一次晶片單位成本正在成長(zhǎng)。

他曾認(rèn)為，28nm是最優(yōu)制程節(jié)點(diǎn)，進(jìn)入16nm后，投片成本超過(guò)3億美元（折合新臺(tái)幣逾90億元），設(shè)計(jì)成本增長(zhǎng)四倍。臺(tái)積電今年大塞車(chē)的制程就是28nm。

對(duì)晶片廠來(lái)說(shuō)，采用先進(jìn)制程為的是追求更好效能、拉高產(chǎn)品均價(jià)（ASP）和降低每單位成本；但若市場(chǎng)需求量擴(kuò)增有限，并無(wú)法降低每單位成本，不利毛利率。

隨著聯(lián)發(fā)科傳出下修明年度10nm投片量，自然也為未來(lái)先進(jìn)制程的需求打上一些問(wèn)號(hào)。