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台积电10nm完成流片 更小制程进行中

2016-07-19

  14nmFinFET工藝已經(jīng)在2015年得到量產(chǎn),那么半導(dǎo)體行業(yè)的工藝越來越復(fù)雜,摩爾定律似乎越來越難以實(shí)現(xiàn)的現(xiàn)在,更小制程的芯片離我們還有多遠(yuǎn)呢?不算很遠(yuǎn)。

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  TSMC表示他們的10nm工藝已經(jīng)有三個(gè)客戶完成流片,雖然沒公布客戶名稱,但用得起10nm工藝的芯片也就是蘋果A10、聯(lián)發(fā)科X30以及海思新一代麒麟處理器,流片的估計(jì)就是這三家了,比較三星也用不著臺(tái)積電,該工藝將在2017年Q1季度量產(chǎn)。

  至于更低的7nm和5nm,臺(tái)積電表示會(huì)在2017年加速工藝,可能要再等上兩年,我們才能夠看到個(gè)位數(shù)制程的處理器芯片了。


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