7月22日晚間消息，美國《財富》雜志發(fā)布新一期世界500強排行榜，臺積電上榜排名第472位。

　　作為全球最大的代工廠，臺積電這幾年并不是很順利，但每每展望未來總是一片光明：2016年第四季度量產(chǎn)10nm，2018投產(chǎn)7nm……那么再往后呢？就是5nm了。嗯，沒錯，越往后進(jìn)步幅度就會越小，5nm之后還能不能繼續(xù)前進(jìn)都是個大問題了。

　　為了解決工藝提升中的各種復(fù)雜挑戰(zhàn)，半導(dǎo)體行業(yè)早就想出了各種各樣的高招，但因為成本太過于高昂，技術(shù)太過于復(fù)雜，一直都很難投入實用，比如說極紫外光刻(EUV)。

　　根據(jù)規(guī)劃， 臺積電的10nm、7nm都會用上EUV極紫外技術(shù)，更遙遠(yuǎn)的5nm也會如此，而且還會加入新的多重電子束技術(shù)(multipe e-beam)。

　　不過，5nm還屬于長期規(guī)劃，需要解決的問題太多太多，何時投產(chǎn)尚無明確時間表，臺積電只是說會在2014-2019年間不斷研究5nm。

　　業(yè)內(nèi)人士預(yù)計，10nm之后的工藝至少5年以后才能實現(xiàn)，照這么預(yù)計及時7nm也得等到2020年，而按照臺積電這幾年的拖沓表現(xiàn)，還真不好說。

　　Intel也在一直研究極紫外光刻和450毫米大晶圓，但多次推遲了投產(chǎn)進(jìn)度。450毫米晶圓已經(jīng)在試產(chǎn)，應(yīng)該會在10nm上使用。極紫外說不定得等7nm。