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武汉新芯宣布嵌入式闪存工艺进展顺利

2015-01-26

武漢新芯集成電路制造有限公司(XMC),今日宣布其第一個基于 SST 應用方案的55nm嵌入式閃存工藝驗證模塊上已經取得成功,其高壓和存儲單元電性測試結果與設計目標值完全吻合,16M存儲陣列良率符合預期。這是武漢新芯低功耗嵌入式閃存技術研發的一個重要里程碑。

武漢新芯于2014年正式開始與 SST 合作開發高可靠性的嵌入式閃存技術。在雙方工程師的共同努力下,僅用不到一年時間就完成了技術導入、工藝設計和器件研發制造。目前,器件的高壓(HV)和單元(Cell)電性參數完全符合預期,整體電路結構兼具高可靠性和低成本,能完全滿足智能卡和物聯網產品的需求。緊接著,武漢新芯將與合作伙伴試產智能卡產品,以驗證終端產品功能和性能,并以此進一步優化工藝、提升良率,實現量產。

55nm嵌入式閃存工藝上取得的進展意味著武漢新芯正穩步推進自己55nm低功耗物聯網平臺的建設。武漢新芯市場部副總裁黃建冬博士說道,我們將繼續拓展現有的制造能力,持續完善工藝平臺,為客戶帶來更多定制化的技術與代工服務。

關于武漢新芯集成電路制造有限公司 XMC

武漢新芯集成電路制造有限公司是一家迅速發展的集成電路制造商,擁有獨特的合作伙伴模式,專注于先進的專業技術。武漢新芯公司依托可靠的技術能力,致力于為客戶提供卓越的300mm晶圓的代工服務。武漢新芯公司總部位于中國武漢,2008年開始量產。更多信息請訪問: www.xmcwh.com

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